浸没式光刻机对焦控制技术研究 下载: 1354次
段晨, 宗明成, 范伟, 孟璐璐. 浸没式光刻机对焦控制技术研究[J]. 光学学报, 2018, 38(9): 0912002.
Chen Duan, Mingcheng Zong, Wei Fan, Lulu Meng. Focus Control Technology in Immersion Lithography[J]. Acta Optica Sinica, 2018, 38(9): 0912002.
[1] 袁琼雁, 王向朝, 施伟杰, 等. 浸没式光刻技术的研究进展[J]. 激光与光电子学进展, 2006, 43(8): 13-20.
[2] 韦亚一. 超大规模集成电路先进光刻理论与应用[M]. 北京: 科学出版社, 2016: 6- 10.
Wei YY. Advanced lithography theory and application of VLSI[M]. Beijing: Science Press, 2016: 6- 10.
[6] 李金龙, 胡松, 赵立新. 双工件台光刻机中的焦面控制技术[J]. 光学学报, 2012, 32(12): 1223002.
[7] 李小平, 陈飞彪. 投影光刻机硅片调焦调平测量模型[J]. 光学学报, 2007, 27(11): 1987-1991.
段晨, 宗明成, 范伟, 孟璐璐. 浸没式光刻机对焦控制技术研究[J]. 光学学报, 2018, 38(9): 0912002. Chen Duan, Mingcheng Zong, Wei Fan, Lulu Meng. Focus Control Technology in Immersion Lithography[J]. Acta Optica Sinica, 2018, 38(9): 0912002.