基于粒子群优化算法的光刻机光源掩模投影物镜联合优化方法

王磊; 李思坤; 王向朝; 杨朝兴

doi:doi:10.3788/AOS201737.1022001

光学学报, 2017, 37 (10): 1022001, 网络出版: 2018-09-07

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Source Mask Projector Optimization Method of Lithography Tools Based on Particle Swarm Optimization Algorithm

王磊 ^1,2李思坤 ^1,2王向朝 ^1,2,*杨朝兴 ¹

作者单位

¹ 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室, 上海 201800

² 中国科学院大学, 北京 100049

引用该论文

王磊, 李思坤, 王向朝, 杨朝兴. 基于粒子群优化算法的光刻机光源掩模投影物镜联合优化方法[J]. 光学学报, 2017, 37(10): 1022001.

Lei Wang, Sikun Li, Xiangzhao Wang, Chaoxing Yang. Source Mask Projector Optimization Method of Lithography Tools Based on Particle Swarm Optimization Algorithm[J]. Acta Optica Sinica, 2017, 37(10): 1022001.

引用列表

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王磊, 李思坤, 王向朝, 杨朝兴. 基于粒子群优化算法的光刻机光源掩模投影物镜联合优化方法[J]. 光学学报, 2017, 37(10): 1022001. Lei Wang, Sikun Li, Xiangzhao Wang, Chaoxing Yang. Source Mask Projector Optimization Method of Lithography Tools Based on Particle Swarm Optimization Algorithm[J]. Acta Optica Sinica, 2017, 37(10): 1022001.

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