光学学报, 2017, 37 (10): 1022001, 网络出版: 2018-09-07
基于粒子群优化算法的光刻机光源掩模投影物镜联合优化方法 下载: 1412次
Source Mask Projector Optimization Method of Lithography Tools Based on Particle Swarm Optimization Algorithm
基本信息
DOI: | 10.3788/AOS201737.1022001 |
中图分类号: | O436.1 |
栏目: | 光学设计与制造 |
项目基金: | 上海市自然科学基金(17ZR1434100)、 |
收稿日期: | 2017-04-10 |
修改稿日期: | 2017-05-22 |
网络出版日期: | 2018-09-07 |
通讯作者: | 王向朝 (wxz26267@siom.ac.cn) |
备注: | -- |
王磊, 李思坤, 王向朝, 杨朝兴. 基于粒子群优化算法的光刻机光源掩模投影物镜联合优化方法[J]. 光学学报, 2017, 37(10): 1022001. Lei Wang, Sikun Li, Xiangzhao Wang, Chaoxing Yang. Source Mask Projector Optimization Method of Lithography Tools Based on Particle Swarm Optimization Algorithm[J]. Acta Optica Sinica, 2017, 37(10): 1022001.