光学学报, 2017, 37 (10): 1022001, 网络出版: 2018-09-07
基于粒子群优化算法的光刻机光源掩模投影物镜联合优化方法 
下载： 1412次
Source Mask Projector Optimization Method of Lithography Tools Based on Particle Swarm Optimization Algorithm
Metrics
摘要访问:3801次
PDF 下载:824次
全文浏览:588次
总被查询:2次
王磊, 李思坤, 王向朝, 杨朝兴. 基于粒子群优化算法的光刻机光源掩模投影物镜联合优化方法[J]. 光学学报, 2017, 37(10): 1022001. Lei Wang, Sikun Li, Xiangzhao Wang, Chaoxing Yang. Source Mask Projector Optimization Method of Lithography Tools Based on Particle Swarm Optimization Algorithm[J]. Acta Optica Sinica, 2017, 37(10): 1022001.
PDF全文
