光学学报, 2017, 37 (10): 1022001, 网络出版: 2018-09-07
基于粒子群优化算法的光刻机光源掩模投影物镜联合优化方法 下载: 1412次
Source Mask Projector Optimization Method of Lithography Tools Based on Particle Swarm Optimization Algorithm
光学制造 光刻 分辨率增强技术 光源掩模投影物镜联合优化 粒子群优化 optical fabrication optical lithography resolution enhancement technique source mask projector optimization particle swarm optimization
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