静电场辅助的微压印光刻技术

LIU Min-zhe, WANG Tai-sheng, LI He-fu, LIU Zhen-yu, CHEN Zuo-long, YU Wei-xing. Electrostatic field assisted micro imprint lithography technology[J]. Optics and Precision Engineering, 2017, 25(3): 663.

引用列表

1、静电诱导的高黏胶液微量分配技术与设备光学精密工程, 2021, 29 (10): 2386

2、面向大面积微结构批量化制造的复合压印光刻光学精密工程, 2019, 27 (7): 1516

3、静电驱动MOEMS保险机构的设计与试验光学精密工程, 2019, 27 (2): 334

4、无基膜高深宽比双面集成微结构元件的制作光学精密工程, 2019, 27 (1): 129

5、频率可调太赫兹微结构光电导天线红外与激光工程, 2018, 47 (5): 520002

6、大面积纳米压印光刻晶圆级复合软模具制造光学精密工程, 2018, 26 (4): 894

7、基于光场相机的深度面光场计算重构光学精密工程, 2018, 26 (3): 708

刘民哲, 王泰升, 李和福, 刘震宇, 陈佐龙, 鱼卫星. 静电场辅助的微压印光刻技术[J]. 光学精密工程, 2017, 25(3): 663. LIU Min-zhe, WANG Tai-sheng, LI He-fu, LIU Zhen-yu, CHEN Zuo-long, YU Wei-xing. Electrostatic field assisted micro imprint lithography technology[J]. Optics and Precision Engineering, 2017, 25(3): 663.

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