光学 精密工程, 2017, 25 (3): 663, 网络出版: 2017-04-18
静电场辅助的微压印光刻技术
Electrostatic field assisted micro imprint lithography technology
基本信息
DOI: | 10.3788/ope.20172503.0663 |
中图分类号: | O359+.1;O442 |
栏目: | 微纳技术与精密机械 |
项目基金: | 国家自然科学基金资助项目(No.61475156, No.61361166004, No.51275504)、 吉林省基金资助项目(No.20140519002JH, No.20140519007JH)、 深圳市科创委基金资助项目(No.KQCX2015032416183981) |
收稿日期: | 2016-09-20 |
修改稿日期: | 2016-10-27 |
网络出版日期: | 2017-04-18 |
通讯作者: | 刘民哲 (liuminzhe_ciomp@126.com) |
备注: | -- |
刘民哲, 王泰升, 李和福, 刘震宇, 陈佐龙, 鱼卫星. 静电场辅助的微压印光刻技术[J]. 光学 精密工程, 2017, 25(3): 663. LIU Min-zhe, WANG Tai-sheng, LI He-fu, LIU Zhen-yu, CHEN Zuo-long, YU Wei-xing. Electrostatic field assisted micro imprint lithography technology[J]. Optics and Precision Engineering, 2017, 25(3): 663.