红外光谱椭偏仪测量硫系玻璃As2Se3折射率的准确性 下载: 664次
1 引言
折射率是最基本的光学材料性能参数之一,也是重要的光学设计参数之一。近些年来,随着红外热成像[1]、红外传感[2]、红外制导[3]等技术的发展,红外光学材料在**和民用领域获得了广泛的应用。硫系玻璃作为一类性能优良的红外光学材料,具有红外透过性能良好、组分可调、热化学稳定等诸多优点[4],在红外光学领域具有广阔的应用前景。
在红外材料的折射率测量方面,目前已经发展了多种测量方法,其中常用的方法包括最小偏向角法[5]、全反射法[6]、垂直底边入射法[7]、V棱镜法[8]以及椭偏法[9-10]。近年来,基于椭偏原理的椭偏仪已经成为测量薄膜样品厚度、光学常数等性能参数最有效的手段之一,它具有易于操作,测试对象范围广,对被测物样品尺寸要求不苛刻等诸多优点。然而,椭偏仪测量折射率的准确性受诸多因素的影响。潘永强等[11]利用椭偏仪测量了TiO2薄膜样品经离子束处理前后的折射率,研究了不同表面粗糙度对薄膜样品在可见至近红外波段的折射率变化规律的影响。刘文德等[12]研究了表面粗糙度对光学常数及模型拟合的影响,结果表明,表面粗糙度的改善可以有效提高拟合度。但研究对象通常为薄膜样品,而关于玻璃样品厚度、加工精度等对测试结果的影响研究鲜有报道。
本文以美国J.A.Woollam公司IR-VASE Mark Ⅱ型红外光谱椭偏仪作为测试平台,测量了自制的As2Se3玻璃的折射率,并根据所测样品的物理特性建立了光学模型,通过模型拟合得出折射率,并与标准数据进行了对比分析。深入研究了样品的厚度、背面粗糙度以及表面光洁度对折射率测量精度的影响,为利用椭偏仪准确测量硫系玻璃折射率提供了参考。
2 基本理论
2.1 测量原理
当偏振光入射到样品表面时,由于样品对平行于入射面的电场分量(p光)和垂直于入射面的电场分量(s光)具有不同的反射系数、透射系数和相位变化,因此样品表面反射光的偏振状态会发生变化,而这些变化中携带了一些关于样品性质的信息。通常,将这种变化用电场矢量在入射平面的复振幅反射系数
式中
式中
2.2 模型拟合
在进行椭偏分析的过程中,模型的建立依赖两个方面,一方面要建立符合实际样品的物理结构模型,另一方面要选择适合描述材料光学常数的色散关系模型。
2.2.1 物理结构模型
建立结构模型的目的主要是研究被测样品包含哪些结构,引入哪些未知参量。通常情况下,建立的物理结构模型与被测样品的实际结构越接近,拟合得到的光学常数参量就会越精确。建立的物理模型如
2.2.2 色散模型
色散现象[16]可以解释为介质中带电粒子在光波电场作用下作受迫振动时产生的一种效应,即色散现象是光波电磁场与介质作用的结果,对应在椭偏分析中即为波长与光学常数之间的函数关系。对于这种函数关系,不同材料相应的制约关系不同,仪器自带的分析软件WVASE32提供了适用于不同材料的色散模型。选用适合描述透明波段光学常数的Sellmeier模型来拟合椭偏数据,其色散公式[17]为
式中
3 实验
3.1 样品制备
玻璃样品采用实验室自制的As2Se3玻璃棒,玻璃棒尺寸为
此外,为了进行对比测试分析,从同一玻璃棒中切出一块样品加工成棱镜,尺寸为30 mm×30 mm×10 mm,顶角角度为20°,加工精度为1',对三棱镜顶角所对应的两面进行抛光处理。棱镜样品折射率测量在西安应用光学研究所的**科工委光学计量一级站进行。
3.2 性能测量
采用红外椭偏仪(IR-VASE Mark Ⅱ型,J.A.Woollam公司,美国)测量样品折射率,测量波长范围为1.7~33 μm,分辨率为1~64 cm-1,变角范围为26°~90°。采用景深显微镜(VHX-1000型,基恩士公司,日本)获取样品的表面三维形态结构,单次采样测量区域为68.83 μm×50 μm,倍率为5000,测量高度间距为20 μm,拍摄速率为0.5 μm·s-1,每次拍摄次数为10,测量温度为18 ℃,相对湿度为23%。
西安应用光学研究所的红外材料折射率测量仪的测量波段范围为2~12 μm,测量温度为22 ℃,相对湿度为49%,测试精度为±0.0002。
4 结果及分析
4.1 棱镜样品的折射率
西安应用光学研究所测量的As2Se3棱镜样品的折射率数据如
表 1. As2Se3棱镜玻璃样品的折射率数据
Table 1. Refractive indices of As2Se3 prism glass specimens
|
4.2 厚度对折射率的影响
为探究厚度对椭偏测试的影响,样品保持相同的背面粗糙度(2000#)和抛光时长(30 min),对1~5 mm五种不同厚度的玻璃样品折射率进行拟合,结果如
图 2. 不同厚度样品的折射率及误差值
Fig. 2. Refractive indices and errors of specimens with different thicknesses
4.3 背面粗糙度对折射率的影响
在椭偏仪测量折射率的过程中,样品背面的反射光(以下称为背反)会叠加进入到探测器中[18],背反的相位信息会丢失,进而极大地增加拟合难度。为了探究背反所带来的影响,在厚度(2 mm)和抛光时长(30 min)相同的情况下,制备了具有不同背面粗糙度的样品,分别记为S1,S2,S3,具体参数如
表 2. 不同背面粗糙度样品参数
Table 2. Parameters of specimens with different back side roughnesses
|
图 3. 不同背面粗糙度样品的表面结构图。(a) S1; (b) S2; (c) S3
Fig. 3. Surface structural diagrams of specimens with different back side roughnesses. (a) S1; (b) S2; (c) S3
图 4. 不同背面粗糙度样品的折射率及误差值
Fig. 4. Refractive indices and errors of specimens with different back side roughnesses
4.4 表面光洁度对折射率的影响
在实际样品制备过程中,受人为因素影响,抛光后样品的表面光洁度存在误差。根据椭偏仪的测试原理可知,椭偏光经样品表面反射后被接收,反射光信息极易受到样品表面光洁度的影响。为探究不同表面光洁度对测试结果的影响,在相同厚度(2 mm)和相同目数砂纸打磨背面(1000#)的情况下,通过设置不同抛光时长获得了具有不同表面光洁度的样品。同样测试了样品的表面形态结构,获得平均轮廓最大高度(
图 6. 不同表面光洁度样品的折射率及误差值
Fig. 6. Refractive indices and errors of specimens with different surface smoothnesses
5 结论
在2~12 μm波段范围内探究了厚度、背面粗糙度和表面光洁度三个因素对红外光谱椭偏仪测量精度的影响,建立光学模型拟合得到折射率参数,并进行对比分析。对于所研究的As2Se3玻璃,可得出以下结论:1)制备样品厚度以1~3 mm为宜;2)采用砂纸打磨样品背面可消除样品背面反射作用对椭偏测试的影响,当背面粗糙度
[1] Ma H, Calvez L, Bureau B, et al. Crystallization study of infrared transmitting glass ceramics based on GeS2-Sb2S3-CsClGeS2-Sb2S3-CsCl math container loading mathjax[J]. Journal of Physics & Chemistry of Solids, 2007, 68(5/6): 968-971.
Ma H, Calvez L, Bureau B, et al. Crystallization study of infrared transmitting glass ceramics based on GeS2-Sb2S3-CsClGeS2-Sb2S3-CsCl math container loading mathjax[J]. Journal of Physics & Chemistry of Solids, 2007, 68(5/6): 968-971.
[3] 岳元, 李丽亚, 祁蒙. 多目标跟踪在红外制导系统中的应用[J]. 电子测量技术, 2017, 40(3): 103-107.
岳元, 李丽亚, 祁蒙. 多目标跟踪在红外制导系统中的应用[J]. 电子测量技术, 2017, 40(3): 103-107.
Yue Y, Li L Y, Qi M. Application of multi-target tracking in infrared guidance system[J]. Electronic Measurement Technology, 2017, 40(3): 103-107.
[4] 戴世勋, 淤杏燕, 张巍, 等. 硫系玻璃光子晶体光纤研究进展[J]. 激光与光电子学进展, 2011, 48(9): 090602.
戴世勋, 淤杏燕, 张巍, 等. 硫系玻璃光子晶体光纤研究进展[J]. 激光与光电子学进展, 2011, 48(9): 090602.
[6] 纪延俊, 杜玉杰, 郭红岩. 全反射法对棱镜折射率的测定[J]. 大学物理实验, 2010, 23(6): 23-24.
纪延俊, 杜玉杰, 郭红岩. 全反射法对棱镜折射率的测定[J]. 大学物理实验, 2010, 23(6): 23-24.
Ji Y J, Du Y J, Guo H Y. Index of refraction of prism using the holoreflecting method[J]. Physical Experiment of College, 2010, 23(6): 23-24.
[7] 米宝永. 光谱范围从365至12000 nm的高精度光电自动折射仪[J]. 光学精密工程, 1998, 6(3): 79-84.
米宝永. 光谱范围从365至12000 nm的高精度光电自动折射仪[J]. 光学精密工程, 1998, 6(3): 79-84.
Mi B Y. Photoelectric automatic refractometer with high precision in the wavelength range 365 to 12000 nm[J]. Optics & Precision Engineering, 1998, 6(3): 79-84.
[10] Synowicki R A. Spectroscopic ellipsometry characterization of indium tin oxide film microstructure and optical constants[J]. Thin Solid Films, 1998, 313/314: 394- 397.
Synowicki R A. Spectroscopic ellipsometry characterization of indium tin oxide film microstructure and optical constants[J]. Thin Solid Films, 1998, 313/314: 394- 397.
[11] 潘永强, 杭凌侠, 吴振森, 等. 离子束后处理对TiO2薄膜表面粗糙度的影响[J]. 中国激光, 2010, 37(4): 1108-1113.
潘永强, 杭凌侠, 吴振森, 等. 离子束后处理对TiO2薄膜表面粗糙度的影响[J]. 中国激光, 2010, 37(4): 1108-1113.
[12] 刘文德, 陈赤, 张航, 等. 玻璃基底和表面粗糙度在氮化硅薄膜椭偏测量中的影响[J]. 中国激光, 2012, 39(6): 245-248.
刘文德, 陈赤, 张航, 等. 玻璃基底和表面粗糙度在氮化硅薄膜椭偏测量中的影响[J]. 中国激光, 2012, 39(6): 245-248.
Liu W D, Chen C, Zhang H, et al. Effect of glass substrate and surface roughness on ellipsometric measurement of silicon nitride films[J]. Chinese Journal of Lasers, 2012, 39(6): 245-248.
[13] FujiwaraH. Spectroscopic ellipsometry: Principles and applications[M]. New York: John Wiley & Sons, 2007.
FujiwaraH. Spectroscopic ellipsometry: Principles and applications[M]. New York: John Wiley & Sons, 2007.
[14] Tikhonravov A V, Tikhonravov A A, Duparré A, et al. Effects of interface roughness on the spectral properties of thin films and multilayers[J]. Applied Optics, 2003, 42(25): 5140-5148.
Tikhonravov A V, Tikhonravov A A, Duparré A, et al. Effects of interface roughness on the spectral properties of thin films and multilayers[J]. Applied Optics, 2003, 42(25): 5140-5148.
[15] Zhao J M, Yang P. A method for determining ultrathin DLC film thickness by spectroscopic ellipsometry[J]. Microsystem Technologies, 2012, 18(9/10): 1455-1461.
Zhao J M, Yang P. A method for determining ultrathin DLC film thickness by spectroscopic ellipsometry[J]. Microsystem Technologies, 2012, 18(9/10): 1455-1461.
[16] 王青, 沈华, 王卫, 等. 光学薄膜的椭圆偏振模型分析与数据处理[J]. 光子学报, 2008, 37(2): 63-65.
王青, 沈华, 王卫, 等. 光学薄膜的椭圆偏振模型分析与数据处理[J]. 光子学报, 2008, 37(2): 63-65.
Wang Q, Shen H, Wang W, et al. Ellipsometry by simulated annealing algorithm[J]. Acta Photonica Sinica, 2008, 37(2): 63-65.
Wang Q, Shen H, Wang W, et al. Ellipsometry by simulated annealing algorithm[J]. Acta Photonica Sinica, 2008, 37(2): 63-65.
[17] Herzinger C M, Johs B, Mcgahan W A, et al. Ellipsometric determination of optical constants for silicon and thermally grown silicon dioxide via a multi-sample, multi-wavelength, multi-angle investigation[J]. Journal of Applied Physics, 1998, 83(6): 3323-3336.
Herzinger C M, Johs B, Mcgahan W A, et al. Ellipsometric determination of optical constants for silicon and thermally grown silicon dioxide via a multi-sample, multi-wavelength, multi-angle investigation[J]. Journal of Applied Physics, 1998, 83(6): 3323-3336.
[18] Kitamura R, Pilon L, Jonasz M. Optical constants of silica glass from extreme ultraviolet to far infrared at near room temperature[J]. Applied Optics, 2007, 46(33): 8118-8133.
Kitamura R, Pilon L, Jonasz M. Optical constants of silica glass from extreme ultraviolet to far infrared at near room temperature[J]. Applied Optics, 2007, 46(33): 8118-8133.
Article Outline
李阳, 刘永兴, 戴世勋, 徐铁峰, 林常规, 陈飞飞. 红外光谱椭偏仪测量硫系玻璃As2Se3折射率的准确性[J]. 光学学报, 2018, 38(6): 0612002. Yang Li, Yongxing Liu, Shixun Dai, Tiefeng Xu, Changgui Lin, Feifei Chen. Accuracy in Refractive Index Measurement of As2Se3 Chalcogenide Glass by IR Spectroscopic Ellipsometer[J]. Acta Optica Sinica, 2018, 38(6): 0612002.