中国工程物理研究院 激光聚变研究中心, 绵阳 621900
为了获得用于高功率激光放大器的单层宽带增透膜, 采用有机聚合物聚乙烯吡咯烷酮掺杂调控二氧化硅胶体生长制备了粒度分布更宽广的稳定胶体体系, 通过提拉镀膜工艺, 制备了单层增透膜。采用粒度仪和粘度仪监测胶体的性质, 用分光光度计测量了膜层透过率, 并用X射线能谱分析了膜层结构。结果表明, 聚乙烯吡咯烷酮引入胶体中使得胶体粒度分布更宽, 所得膜层具有折射率渐变特性, 因而膜层具有宽带增透的效果; 膜层在550nm～950nm连续波段内透射率不低于99%。单层宽谱增透膜层不需后处理就可投入使用, 膜层性能稳定, 满足了激光装置片状放大器的运行要求。
薄膜 二氧化硅 宽谱增透膜 放大器 高功率激光器 thin films SiO2 broadband antireflection coating amplifier high power laser
长春理工大学光电工程学院, 吉林 长春 130022
为满足现代军用综合性光学仪器一机多用的要求，研制了500～1200 nm波段宽带减反膜。采用混合H4、SiO2和MgF2三种材料制备宽带减反膜。通过实验分析了误差产生的原因，并借助膜系设计软件，对结果采用变尺度法进行模拟优化，最后在制备过程中通过改变每层的修正系数，解决了厚度误差对光谱特性的影响，最终用国产真空镀膜机制备了超宽带减反膜，在500～1200 nm波段反射率平均小于0.5%。
薄膜 宽带减反膜 光学常数 修正系数
1 同济大学 精密光学工程技术研究所, 上海 200092
2 天津津航技术物理研究所 天津市薄膜光学重点实验室, 天津 300192
3 哈尔滨工业大学 光电子技术研究所, 哈尔滨 150001
为了制备满足设计要求的宽角度、宽波段减反膜, 利用离子束溅射沉积技术, 在时间-功率控厚的模式下, 对膜层沉积速率进行了精确修正。在实验中, 利用时间-功率控厚的离子束溅射沉积技术, 选择HfO2和SiO2作为高低折射率组合, 在超抛ZF6玻璃基底上制备了宽角度、宽带减反膜, 通过对实验后的透过率光谱曲线的数值反演计算, 获得膜层厚度修正系数, 初步得到了沉积速率随沉积时间变化的规律。利用修正后的沉积参数制备设计的膜系, 在0°~30°入射角度下, 600~1 200 nm波段的平均透过率达到99%以上。
宽带减反膜 离子束溅射 时间-功率控厚 膜层厚度修正 broadband antireflection coating ion beam sputtering deposition time-power monitoring correction of layer thickness
