为了改善光学镜头表面的耐污染性, 选取新型抗油污含氟有机材料、氧化铟锡导电薄膜材料、TiAl合金以及SiO2做为中、高、低折射率镀膜材料.借助TFCalc软件进行膜系设计, 采用离子源辅助沉积的方法, 通过电子束真空镀膜设备进行制备.对比实验发现, 不同的真空度环境以及不同的膜层厚度, 对于薄膜的防油污性能的影响有所差异.通过对防油污性能的测试, 不断优化沉积工艺参量, 获得了在350~700 nm波段平均理论反射率小于1%的宽带减反射膜.该薄膜具有憎水憎油抗污染能力, 牢固度好, 抗辐射能力强, 可应用于**、医疗、民用等各个领域.
光学薄膜 防油污 宽带减反膜 离子源辅助沉积 抗辐射 Thin films Anti-oil Broadband Ion beam assisted deposition Radiation hardened
长春理工大学光电工程学院, 吉林 长春 130022
为满足现代军用综合性光学仪器一机多用的要求，研制了500～1200 nm波段宽带减反膜。采用混合H4、SiO2和MgF2三种材料制备宽带减反膜。通过实验分析了误差产生的原因，并借助膜系设计软件，对结果采用变尺度法进行模拟优化，最后在制备过程中通过改变每层的修正系数，解决了厚度误差对光谱特性的影响，最终用国产真空镀膜机制备了超宽带减反膜，在500～1200 nm波段反射率平均小于0.5%。
薄膜 宽带减反膜 光学常数 修正系数
1 同济大学 精密光学工程技术研究所, 上海 200092
2 天津津航技术物理研究所 天津市薄膜光学重点实验室, 天津 300192
3 哈尔滨工业大学 光电子技术研究所, 哈尔滨 150001
为了制备满足设计要求的宽角度、宽波段减反膜, 利用离子束溅射沉积技术, 在时间-功率控厚的模式下, 对膜层沉积速率进行了精确修正。在实验中, 利用时间-功率控厚的离子束溅射沉积技术, 选择HfO2和SiO2作为高低折射率组合, 在超抛ZF6玻璃基底上制备了宽角度、宽带减反膜, 通过对实验后的透过率光谱曲线的数值反演计算, 获得膜层厚度修正系数, 初步得到了沉积速率随沉积时间变化的规律。利用修正后的沉积参数制备设计的膜系, 在0°~30°入射角度下, 600~1 200 nm波段的平均透过率达到99%以上。
宽带减反膜 离子束溅射 时间-功率控厚 膜层厚度修正 broadband antireflection coating ion beam sputtering deposition time-power monitoring correction of layer thickness
