采用两步法在二氧化锡掺氟(SnO2∶F，FTO)导电玻璃基板上制备出钇(Y)掺杂多孔结构氧化锌(ZnO)纳米棒，首先利用浸渍-提拉法在FTO导电玻璃基板上 制备ZnO晶种层，然后利用水热法在ZnO晶种层上生长Y掺杂ZnO纳米棒。研究了不同浓度Y掺杂ZnO纳米棒的晶相结构、微观形貌、化学组成及光学性能。实验结 果表明：所制备的Y掺杂ZnO纳米棒为沿c轴择优取向生长的六方纤锌矿结构，随着Y掺杂浓度的增加，ZnO纳米棒(002)衍射峰强度先增大后减小，纳米棒的平均 长度由1.3 μm增加到2.6 μm。ZnO纳米棒的形貌由锥状结构向柱状结构演化，纳米棒侧面的孔洞分布密度增加。所制备的Y掺杂ZnO纳米棒具有一个较弱的紫 外发光峰和一个较强的宽可见发光峰。所制备样品的光学带隙随着Y掺杂浓度的增加而减小，其光学带隙在3.29~3.21 eV之间变化。利用Y掺杂ZnO纳米棒作为 量子点敏化太阳能电池的光阳极可极大提高太阳电池的光电转换效率。

利用溶液法的浸渍提拉工艺制备了以有机聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)为介质层、非晶铝铟锌氧化物(a-AIZO)为沟道层的顶栅共面结构薄膜晶体管(TFT), 研究了沟道层退火温度对TFT性能的影响机理。结果表明: 较低退火温度(如300和350℃)下处理的沟道层中存在未彻底分解的金属氢氧化物, 其以缺陷态形式存在于TFT沟道层内或沟道层/介质层界面处, 对导电沟道中电子进行捕获或散射, 劣化TFT的迁移率、电流开关比以及亚阈值摆幅。综合来看, 退火温度高于400℃下制备的a-AIZO适用于TFT器件的沟道层, 相应的器件呈现出较高的迁移率(大于20cm2/(V·s))、较低的亚阈值摆幅(小于0.5V/decade)以及高于104的电流开关比。

通过自组装技术在玻璃基底上制备了二氧化硅薄膜的亚波长多孔结构, 这种类似于多晶的胶体晶体结构其特征尺寸约为90 nm, 通过不同的提拉速度可以实现可见到红外不同波段的增透。系统研究了胶体乳液浓度、基片提拉速度对亚波长多孔薄膜透射谱的影响, 探索了在不同波段实现高效率增透的最佳制备条件。通过等效介质理论(EMT)分析了这种亚波长多孔薄膜的光学特性, 结果表明控制亚波长多孔结构的占空比可以改变等效膜层的折射率实现高效率增透。通过扫描电镜(SEM)表征了多孔膜的表面形貌, 并通过图像处理的方式得到二氧化硅纳米粒子的占空比因子。实验结果表明: 在一定范围内, 提拉速度不同, 对应的等效膜层的折射率会不同, 膜层的透射率也不同。组装这种亚波长多孔纳米微结构最高增透率达到99.8%, 且具有一定的宽带增透效果, 通过控制膜层的厚度可以实现从可见光到红外波段的有效调谐, 其在1 064 nm处的损伤阈值为21.74 J/cm2。

采用提拉法在硅基底上制备了多孔溶胶凝胶SiO2膜，用椭偏法测量薄膜的厚度与折射率，考察了提拉速度和胶体浓度对膜层厚度与折射率的影响。对厚度与提拉速度的关系进行线性与幂函数拟合，并比较分析两种拟合的关系及其对工艺流程的作用。比较了不同浓度胶体所得到的同一厚度薄膜的折射率变化规律。结果表明: 对于同一胶体浓度下薄膜厚度与提拉速度的正相关关系，线性拟合相比幂函数拟合可以更好地解释实验结果的规律性。同时，折射率在一定范围内也会随着提拉速度的增加而减小。镀同一厚度膜时，浓度大的胶体膜层折射率大。通过对提拉速度和胶体浓度的控制可以得到理想的薄膜厚度与折射率。

报道了一种新型的纳米-微米复合的蓝宝石图形化衬底,采用dip-coating的方法在微米级SiO2半球阵列表面静电自组装一层SiO2纳米球,形成了适合纳米范围选择性生长的区域。研究发现,该复合结构的制备过程与后续外延的工艺兼容。经封装后,在复合图形衬底上制造的LED芯片,其所测试的光通量比未添加SiO2纳米颗粒的微米图形衬底制造的LED光通量提高57%左右,而光输出功率则提高了17.8%。研究表明,在传统的微米图形衬底上加入SiO2纳米颗粒阵列不仅能够提供纳米级区域外延生长的模板,有效减少外延层的线位错密度,而且能够进一步粗化衬底表面,增加有源层光线逸出的几率,从而有效地提高了光提取效率。

为了研究静置时间、液面下降速度对聚苯乙烯(C8H8)滤光膜厚度和均匀性的影响, 采用浸渍法制备了C8H8滤光膜, 通过改变静置时间、液面下降速度,制备了不同的样品。用Vecco Dektak6.0探针轮廓仪测量样品厚度, 利用插值法方法, 研究了C8H8滤光膜与静置时间、液面下降速度的关系。结果表明, 静置时间和液面下降速度对C8H8薄膜厚度和均匀性有很大影响;静置时间越短, 液面下降速度越小, 浸渍法制备的C8H8滤光膜的均匀性越好。

介绍了碳气凝胶/聚苯乙烯（CRF/CH）双介质柱状靶的制备方法。使用溶胶-凝胶法和微模具原位成型法制备了直径为820 μm的间苯二酚-甲醛（RF）气凝胶微柱，在氮气保护下进行高温碳化后得到直径为730 μm、密度为250 mg·cm-3的CRF微柱；采用浸渍提拉法在CRF微柱柱面镀制一层厚度为26 μm 的CH薄膜， 形成CRF/CH双介质结构；采用机械微切割技术制备了长度为1 mm， 内径为730 μm，壁厚为26 μm的CRF/CH双介质柱状靶。实验研究了RF,CRF气凝胶微柱的制备工艺、微观形貌及CRF微柱轴向和径向的密度均匀性，探讨了影响CH薄膜厚度的主要因素，并对CH薄膜的表面形貌和两种材料之间的界面进行了表征。

对亚波长纳米微结构-非紧密堆积多晶胶体晶体光学薄膜的增透特性进行了研究。采用浸渍-提拉法在玻璃表面组装了亚波长纳米微结构，并利用等效介质理论分析其光学性质，理论和实验符合。研究表明实验制备的纳米微结构具有优异的增透性质，通过控制组装条件可以控制膜层厚度实现高增透效率从可见光到近红外的有效调谐，且微结构在玻璃基底上的等效折射率接近1.22，透射率最大能提高约7%，达到998%的增透效果。

氘代聚合物膜是快点火基础物理实验的一种重要靶型.通过氘代苯乙烯单体的本体自由基聚合反应制备氘代聚苯乙烯,并利用流延法和浇铸法制备出厚度从几十nm到数百μm的膜靶.溶剂挥发过程中的随机扰动对膜厚均匀性造成影响,采用清洁的基片和在涂沫基片或模具外加防护罩可以降低这种影响.采用PVA作脱膜剂有利于获得较薄的聚合物薄膜.DSC分析表明薄膜的玻璃化转变温度与热处理过程有关,缓慢退火有利于提高Tg和储能模量.