低源流量Delta掺杂p型GaN外延薄膜的研究

王凯; 邢艳辉; 韩军; 赵康康; 郭立建; 于保宁; 李影智

半导体光电, 2016, 37 (2): 229, 网络出版: 2016-05-11

低源流量Delta掺杂p型GaN外延薄膜的研究

Investigation on Low Source Flux Delta Doped p-GaN Flim Grown by MOCVD

王凯邢艳辉 ^*韩军赵康康郭立建于保宁李影智

作者单位

北京工业大学电子信息与控制工程学院光电子技术省部共建教育部重点实验室，北京 100124

补充材料

王凯, 邢艳辉, 韩军, 赵康康, 郭立建, 于保宁, 李影智. 低源流量Delta掺杂p型GaN外延薄膜的研究[J]. 半导体光电, 2016, 37(2): 229. WANG Kai, XING Yanhui, HAN Jun, ZHAO Kangkang, GUO Lijian, YU Baoning, LI Yingzhi. Investigation on Low Source Flux Delta Doped p-GaN Flim Grown by MOCVD[J]. Semiconductor Optoelectronics, 2016, 37(2): 229.