中国激光, 2014, 41 (11): 1106001, 网络出版: 2014-10-08   

MOCVD生长1.06 μm波段InGaAs/GaAs单量子阱材料的发光特性研究

Optical Characteristics of 1.06 μm InGaAs/GaAs Quantum Well Grown by MOCVD
作者单位
长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室, 吉林 长春 130022
基本信息
DOI: 10.3788/cjl201441.1106001
中图分类号: O472+.3
栏目: 材料与薄膜
项目基金: 国家自然科学基金(60976038,61107054,61308051)、国家自然科学基金委员会和中国工程物理研究院联合基金(U1330136)、吉林省科技发展计划(20100419,20140101192)、高功率半导体激光国家重点实验室基金(C1301)
收稿日期: 2014-04-18
修改稿日期: 2014-06-24
网络出版日期: 2014-10-08
通讯作者: 刘洋 (yongdi36@163.com)
备注: --

刘洋, 李林, 乔忠良, 苑汇帛, 谷雷, 戴银, 李特, 曲轶. MOCVD生长1.06 μm波段InGaAs/GaAs单量子阱材料的发光特性研究[J]. 中国激光, 2014, 41(11): 1106001. Liu Yang, Li Lin, Qiao Zhongliang, Yuan Huibo, Gu Lei, Dai Yin, Li Te, Qu Yi. Optical Characteristics of 1.06 μm InGaAs/GaAs Quantum Well Grown by MOCVD[J]. Chinese Journal of Lasers, 2014, 41(11): 1106001.

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