通过建立环形抛光的去除模型，从理论上分析了转速比、槽形、元件摆动对于抛光结果的影响，并分析了中频误差产生的原因。模拟结果表明: 转速比的差异会产生较大的低频误差，而中频误差会随着低频误差的降低而降低; 槽形是中频误差的主要来源，复杂的非对称不规律槽形使抛光路径复杂化，降低中频误差; 同时元件的小幅度摆动能够使抛光更加均匀，减小定心式抛光造成的元件表面规则状纹路结构，从而有效减小元件的中频误差。
环形抛光 中频误差 模拟 转速比 槽形 continuous polishing mid-spatial frequency error simulation rotating ratio groove shape 强激光与粒子束
2013, 25(12): 3307
根据环形抛光的加工特点，研究了大口径反射元件的环形抛光加工工艺。在4 m环抛机上进行了610 mm×440 mm×85 mm的大口径反射元件加工工艺实验，研究了修正盘及工件盘转速与元件面形的关系、修正盘及工件盘位置与元件面形的关系、沥青盘槽形与元件面形的关系。研究结果表明，通过对修正盘及工件盘转速、修正盘及工件盘位置、沥青盘槽形等工艺参数的优化控制，能够得到大口径反射元件面形的高效收敛，元件最高面形精度优于λ/6(λ=632.8 nm)，验证了加工工艺的有效性。
环形抛光 大口径反射元件 工艺优化 转速 槽形 annular lapping large-aperture reflective component process optimization rotating speed groove shape
为解决大型激光驱动器建设中的关键工艺大型精密环形抛光技术一直存在着的控制困难、精度收敛不稳定的难题，分析了环形抛光加工中面形调整控制机理和本质，找到了传统调节控制和判断方法中的缺陷，提出了一种对环抛机面形变化基本实时的离线监测方法。这种监测方法具有结构简单、检测判断时间短和面形变化反应直观的优点。通过建立实验监测装置和实际加工验证，获得了较好的面形趋势判断和实时控制效果。
光学制造 面形监测 环抛机 关键参数 optical fabrication surface figure monitoring annular lapping key parameter
采用不同的数值计算方法求解了大口径(340mm×340mm)方形离轴非球面的最接近球面曲率半径和非球面度，得出了各种不同的磨削量及其对应的分布结构。对不同的最接近球面及非球面度所适用的加工工艺和检测方法进行了分析和评价。这对离轴非球面的加工和检测具有一定的指导意义。
离轴非球面 非球面度 加工 检测 off-axis aspheric asphericity manufacturing testing
1 四川大学 电子信息学院，成都 610064
2 成都精密光学工程研究中心，成都 610041
减小大孔径超光滑玻璃表面的粗糙度是提高抛光质量的关键。实验研究了抛光过程中pH值对抛光元件表面粗糙度的影响。结果表明：抛光液的pH值对抛光元件表面粗糙度有较明显的影响；抛光过程中抛光液的pH值会随抛光时间而变化；抛光过程中，当保持抛光液处于微碱状态，且离抛光粉的等电离点较远时，抛光元件表面具有较小的粗糙度。
抛光 pH值 表面粗糙度 水解 等电离点 polishing pH value surface roughness hydrolysis the isoelectric point
1 四川大学电子信息学院, 四川 成都 610064
2 成都精密光学工程研究中心, 四川 成都 610041
针对超精密光滑光学元件加工过程中容易出现的粗糙度较大和表面疵病较多的现象,对传统抛光机理和抛光过程中抛光粉的主要参量对抛光质量的影响进行了研究。研究表明:抛光表面水解层对超光滑表面的形成有重要意义,超大、超硬抛光颗粒是超光滑表面疵病的主要原因。并根据抛光粉的主要参量随抛光时间的变化规律提出抛光周期的概念和对抛光粉进行预处理的抛光方法,即利用抛光初期对抛光粉进行预处理、利用抛光中期进行工件抛光的加工方法。实验结果表明用预处理的方法确实可以有效地降低抛光元件的表面粗糙度和减小表面疵病的出现几率,提高加工的质量和效率。
光学加工 预处理 抛光 表面疵病
