抗氯离子侵蚀能力的强弱对水泥基材料服役寿命长短有着关键性的影响。本文研究了不同氧化石墨烯(GO)掺量(0%、0.02%、0.04%、0.06%、0.08%、0.10%,质量分数)在干湿交替氯盐环境下对水泥砂浆抗氯离子侵蚀性能的影响, 分析了不同GO掺量下自由氯离子浓度与水泥砂浆抗氯离子侵蚀性能之间的关系, 并利用扫描电子显微镜从微观角度分析水泥砂浆的抗侵蚀性能。结果表明: GO能显著提高水泥砂浆的抗氯离子侵蚀能力, 最佳掺量范围为0.04%~0.06%; 在同一钻孔深度处, 水泥砂浆内的自由氯离子浓度随着GO掺量的增加先降低后升高; GO能有效调节水泥砂浆的微观形貌, 减少内部孔隙产生, 密实结构, 提高水泥砂浆抗氯离子侵蚀能力。

为了实现在侧边抛磨光纤(SPF)上制作布拉格光栅结构并提高器件设计灵活性, 利用重铬酸盐明胶(DCG)作为光刻材料, 提出一种新型的光纤表面布拉格光栅制作方法并对该器件温度传感特性进行研究。使用轮式抛磨系统制作SPF,并在SPF侧抛面上旋涂DCG,通过干涉光束曝光显影制作表面布拉格光栅。光谱测量表明: 带有布拉格光栅的侧边抛磨光纤在1 480.2 nm处有透射谷, 在相应位置反射谱有明显反射峰, 其调制幅度达到15.9 dB, 这是由于表面光栅的布拉格反射所致。温度传感实验表明, 该布拉格反射峰的温度灵敏度为17.84 pm/℃。这种器件已在光纤传感和光纤滤波器等方面获得应用。

研究了光子晶体Bragg镜的反射相移及透射相移，发现随着入射光频率的增大，相位均在增大。在中心频率附近反射相移和透射相移都与频率成线性关系。利用泰勒展开式的一级近似，得到了中心频率附近反射相移和透射相移的一级近似解析解，它们能很好地描述相移的变化规律。利用相移特性研究了Bragg微腔的共振模随微腔厚度的频率变化特性，同时亦给出了中心频率附近共振模频率的一级近似解析解。

为了了解光波在一维光子晶体的传输特性，利用传输矩阵方法进行了数值模拟，并研究了缺陷层厚度对缺陷模偏振特性的影响。结果表明，入射角的变化对光子晶体的禁带及缺陷模影响较大，它们都随入射角的增大向高频(短波)方向移动，s偏振的禁带宽度逐渐增宽而p偏振的禁带宽度变化不明显，p偏振的缺陷模频移较s偏振的稍大。随着入射角的增大，s偏振的缺陷模越来越细、品质因子逐渐增大，而p偏振的缺陷模变化趋势则刚好相反。

给出了一种判断一维光子晶体禁带位置的相位图，利用扩展相位图可方便地描述光子晶体的禁带位置和禁带特征。研究发现，当光子晶体为1／4波片层堆时，光子晶体的禁带最宽；若要进一步展宽禁带，需提高构成周期单元的两种介质的折射率比。对于一般的光子晶体，若周期单元中两种介质的光学厚度不等，则其禁带中心将偏离中心频率的整数倍。此外还研究了禁带中心区的透射率，给出了中心频率附近透射率的一级近似解析解，并由此定性讨论了Fabry－Perot腔的谱线宽度和品质因子。

为了了解一维光子晶体布喇格非线性微腔产生的缺陷模和双稳态特性，采用数值模拟和理论分析相结合的方法，研究了缺陷层厚度变化和布喇格镜准周期性对缺陷模和双稳态的影响。研究结果表明，缺陷层厚度增大和折射率递增时，均可使缺陷模向低频方向移动，即布喇格腔共振模红移，因此，只要较小的入射光强就可使腔共振模红移到入射光模而产生阈值较低的双稳态，数值计算与理论分析是一致的。这对光子晶体微腔的设计有一定的意义。

提出了一种新的基于图像变换的自定标算法，由于绝对二次曲线的像的各个元素不在一个数量级上，导致自定标过程中对噪音极其敏感．该方法针对于这一缺点，首先估计一个内参矩阵，然后通过图像变换，使绝对二次曲线的像的各个元素在一个数量级上．理论分析及模拟图像序列和真实图像序列的实验结果表明，该自定标算法能够提高定标准确度及鲁棒性．

目的:研究氯化锂(LiCl)在体外对KT-1/A3白血病细胞增殖及凋亡的影响.方法:采用液体培养实验,MTT实验,集落培养实验为指标观察LiCl对KT-1/A3细胞增殖的影响,采用DNA片段凝胶电泳及流式细胞检测为指标检测细胞凋亡.结果:①不同浓度的LiCl(5mM-25mM)对KT-1/A3细胞具有抑制增殖的作用,这种增殖抑制作用呈剂量依赖关系.②在LiCl(20 mM)作用72h的DNA凝胶电泳谱可见DNA Ladder及流式细胞仪检测可见凋亡特有的AP峰,提示LiCl可诱导KT-1/A3细胞凋亡.结论:LiCl能抑制KT-1/A3白血病细胞增殖和诱导凋亡.