作者单位
摘要
电子科技大学 光电科学与工程学院,成都 610054
为研究磁控溅射的衬底温度、氧氩比、沉积时间和工作气体流量对混合相VOx薄膜电学性能的影响,采用正交实验法,设计了4因素4水平16组实验,实施实验并记录样品电阻温度系数(TCR)和方阻值,分析薄膜电学性能随不同因素不同水平的变化趋势;然后,结合均值和方差分析以及XPS分析,得到不同因素影响混合相VOx薄膜电学性能程度的大小依次为:工作气体流量,衬底温度,氧氩比,沉积时间。最后,得出制备混合相VOx薄膜的优选参数:溅射电流0.3 A,衬底温度270 ℃,氧氩比2.8%,沉积时间20 min,工作气体流量120 cm3/min,测试结果显示,其TCR为-2.65%/K,方阻为1 102.1 kΩ/□。
磁控溅射 正交实验 XPS分析 优选参数 VOx VOx magnetron sputtering orthogonal experiment XPS optimal parameter 
半导体光电
2023, 44(3): 382
作者单位
摘要
1 云南师范大学信息学院,云南 昆明 650500
2 南通理工学院计算机与信息工程学院,江苏 南通 226004
受限于管道内环形焊缝缺少点和直线特征,单目视觉无损检测机器人自动定位管道中的焊缝仍然是一项充满挑战性的研究。研究机器人有左右摆动干扰运动下正环形焊缝定位问题,根据管道内壁圆形焊缝在检测机器人相机中的几何成像模型和机器人运动速度,建立定位正圆形焊缝至检测机器人距离的特殊同步定位与地图构建(SLAM)问题控制方程,并将求解该控制方程的问题转换成使损失函数达到最小的优化问题。针对该优化问题的高度非线性,采用遗传算法求解,实现了机器人有左右摆动干扰运动下的正环形焊缝定位。利用机器人在圆柱形管道内探测的正圆形焊缝的合成视频以及实际工作时所抓拍的视频,对所提定位方法进行实验,实验结果表明,所提定位方法可以获得良好的结果。
机器视觉 单目视觉 管道圆环焊缝定位 环形焊缝轮廓形状建模 管道焊缝SLAM 遗传算法 
激光与光电子学进展
2022, 59(12): 1215007
Author Affiliations
Abstract
1 State Key Laboratory of High Field Laser Physics and CAS Center for Excellence in Ultra-intense Laser Science, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China
2 Center of Materials Science and Optoelectronics Engineering, University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100049, China
3 Department of Physics, College of Arts and Science, University of Colorado Boulder, Boulder, CO 80309, USA
4 College of Physics, Guizhou University, Guiyang 550025, China
5 Department of Physics, Shanghai Normal University, Shanghai 200234, China
6 Physics Faculty, Lomonosov Moscow State University, Moscow 119991, Russia
Laser polarization and its intensity inside a filament core play an important role in filament-based applications. However, polarization dependent clamping intensity inside filaments has been overlooked to interpret the polarization-related filamentation phenomena. Here, we report on experimental and numerical investigations of polarization dependent clamping intensity inside a femtosecond filament in air. By adjusting the initial polarization from linear to circular, the clamping intensity is increased by 1.36 times when using a 30 cm focal length lens for filamentation. The results indicate that clamping intensity inside the filament is sensitive to laser polarization, which has to be considered to fully understand polarization-related phenomena.
femtosecond laser filamentation clamping intensity polarization 
Chinese Optics Letters
2021, 19(10): 103201
作者单位
摘要
1 电子科技大学 光电科学与工程学院,四川 成都 610054
2 电子科技大学 电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川 成都 610054
物质拓扑态的发现是近年来凝聚态物理和材料科学的重大突破。由于存在不同于常规半导体的特殊拓扑量子态(如狄拉克费米子、外尔费米子、马约拉纳费米子等),拓扑量子材料通常能表现出一些新颖的物理特性(如量子反常霍尔效应、三维量子霍尔效应、零带隙的拓扑态、超高的载流子迁移率等),因而在低能耗电子器件和宽光谱光电探测器件领域具有重要的研究价值。本文综述了拓扑量子材料的特性与制备方法以及在光电探测领域的发展现状,重点讨论了拓扑绝缘体与拓扑半金属宽光谱光电探测器的器件结构与性能,同时也对拓扑量子材料在光电探测器领域的发展前景进行了展望。
拓扑量子材料 拓扑半金属 拓扑绝缘体 光电探测器 topological quantum materials topological semimetal topological insulator photodetector 
中国光学
2021, 14(1): 43
作者单位
摘要
电子科技大学 光电信息学院 电子薄膜与集成器件国家重点实验室, 成都 610054
采用脉冲直流反应磁控溅射技术在不同的占空比条件下制备了氧化钒薄膜。利用X射线光电子能谱仪测定了薄膜的组分, 用光谱椭偏仪在300~850nm的波长范围内对薄膜的光学性质进行了研究。实验结果表明降低占空比具有促进金属钒氧化的作用, 而通过采用Tauc-Lorentz谐振子色散模型结合有效介质近似模型对椭偏参数Ψ和Δ进行拟合, 得到了较为理想的拟合结果。薄膜的复折射率和透过率均由椭偏拟合结果确定, 结果发现占空比的下降, 导致了可见光范围内薄膜折射率和消光系数的降低以及透过率的提高。
氧化钒薄膜 光谱椭偏 脉冲直流反应磁控溅射 占空比 Tauc-Lorentz模型 vanadium oxide thin film spectroscopic ellipsometry pulsed DC reactive magnetron sputtering duty cycle Tauc-Lorentz model 
半导体光电
2015, 36(2): 220
作者单位
摘要
电子科技大学 光电信息学院 电子薄膜与集成器件国家重点实验室, 成都 610054
室温下, 采用脉冲直流反应磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了氧化钒薄膜。研究了脉冲调制功率占空比对薄膜物相、表面形貌、组分和热敏电学性能的影响。X射线衍射测试结果表明在室温及不同占空比下生长的氧化钒薄膜均为非晶结构; 原子力显微镜表面形貌测试表明降低占空比可以得到更加光滑的薄膜表面; X射线光电子能谱测试表明降低占空比能够在反应溅射气氛不变的情况下促进钒的氧化; 对薄膜的热敏电学特性测试发现, 在293~368K, 小极化子跳跃是脉冲反应磁控溅射氧化钒薄膜中主要的导电机制。
氧化钒 脉冲直流溅射 占空比 电学性质 VOx pulsed DC sputtering duty cycle electrical properties 
半导体光电
2015, 36(1): 66
何少伟 1,*陈鹏杰 1胡庆 1董翔 1[ ... ]黄光 2
作者单位
摘要
1 电子科技大学 光电信息学院, 成都 610054
2 武汉国家光电实验室, 武汉 430074
利用磁控反应溅射镀膜方法在低温(250℃)条件下制备了主要成分为B相亚稳态二氧化钒(VO2)的薄膜材料。电学性能测试表明: 室温下该薄膜的方块电阻为50kΩ左右, 电阻温度系数为-2.4%/K, 可以作为非致冷红外微测热辐射热计的热敏材料。
二氧化钒薄膜 磁控溅射 微测辐射热计 非致冷红外探测器 电阻温度系数 VO2 (B) thin film magnetron sputtering microbolometer uncooled infrared detector TCR 
半导体光电
2012, 33(4): 500
作者单位
摘要
电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件重点实验室, 四川 成都 610054
氧化钒薄膜是非致冷红外焦平面探测器的重要组成部分, 光电特性一直是国内外的研 究热点。用反应磁控溅射方法在K9玻璃衬底上制备了氧化钒薄膜, 并在特定条件下对其进行了退火处理。结果发现, 在300 ℃下 退火180 s的氧化钒薄膜在可见光照射情况下呈现出了光伏效应, 这说明光生载流子在氧化钒薄膜表层形成后得到了有效分 离。该光伏特性为氧化钒薄膜在光电探测器中的应用拓展提供了有力的理论依据。
氧化钒薄膜 退火 光伏效应 Dember效应 场制表面电压 oxide vanadium thin film annealing photovoltaic effect Dember effect electric field induced surface voltage 
红外
2011, 32(5): 14

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!