发光学报, 2016, 37 (2): 192, 网络出版: 2016-03-22
原子层沉积AlOx薄膜对单晶硅太阳能电池钝化机制的影响
Passivation Mechanism of AlOx Thin Film Fabricated on c-Si by Atomic Layer Deposition
基本信息
| DOI: | 10.3788/fgxb20163702.0192 |
| 中图分类号: | O484.4;TP394.1 |
| 栏目: | 器件制备及器件物理 |
| 项目基金: | “863”计划项目(2011AA050516)、 辽宁省博士启动项目(20141022)、中央高校基本科研业务费项目(DUT14LK34)资助 |
| 收稿日期: | 2015-11-24 |
| 修改稿日期: | 2015-12-07 |
| 网络出版日期: | 2016-03-22 |
| 通讯作者: | 张炳烨 (byzhang@dlut.edu.cn) |
| 备注: | -- |
张炳烨, 谢洪丽, 方铉, 刘爱民. 原子层沉积AlOx薄膜对单晶硅太阳能电池钝化机制的影响[J]. 发光学报, 2016, 37(2): 192. ZHANG Bing-ye, XIE Hong-li, FANG Xuan, LIU Ai-min. Passivation Mechanism of AlOx Thin Film Fabricated on c-Si by Atomic Layer Deposition[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2016, 37(2): 192.
PDF全文
